1. Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. V. 1. Process Technology. N. Y.: Lattice Press. 2000. 890 p.
2. Мурин Д. Б., Ефремов А. М., Светцов В. И., Пивоваренок С. А., Годнев Е. М. Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCl-H2 и HCl-O2 // Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2013. Т. 56. № 8. С. 41-44.
3. Карякин Ю. В., Ангелов И. И. Чистые химические вещества. М.: Химия, 1974. 408 с.
4. Рохлин Г. Н. Газоразрядные источники света. М.-Л.: Энергия, 1966. 560 с.
5. Pearse R. W. B., Gaydon A. G. The identification of molecular spectra. Ed. 4th. New York: John Wiley & Sons, Inc. 1976. 407 p.
6. Стриганов А. Р., Свентицкий Н. С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. 899 c.
7. Пивоваренок С. А. Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы CF2Cl2/Ar и CF2Cl2/He // Микроэлектроника. 2017. Т. 46. № 4. С. 290-294.
8. Пивоваренок С. А., Дунаев А. В., Мурин Д. Б., Ефремов А. М., Светцов В. И. Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде // Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2011. Т. 54. № 9. С. 48-52.