Установка хлорид-гидридной газофазной эпитаксии для выращивания объемных слоев нитрида галлия

 
Код статьиS086858860002808-0-1
DOI
Тип публикации Статья
Статус публикации Опубликовано
Авторы
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: ОАО «Тринитри»
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: ОАО «Тринитри»
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: ОАО «Тринитри»
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Питерский политехнический университет
Адрес: Российская Федерация
Аффилиация: Институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Адрес: Российская Федерация
Название журналаНаучное приборостроение
ВыпускТом 28 Номер 4
Страницы20-22
Аннотация

Хлорид-гидридная газофазная эпитаксия - перспективный метод для промашленного производства подложек нитрида галлия. Однако HVPE-реакторов для выращивания объемных слоев GaN и A1N на рынке нет. Нами разработан HVPE-реактор для массового производства объемных эпитаксиальных слоев нитридов галлия и алюминия.

Ключевые словаHPVE, реактор, GaN, подложки, III-нитриды
Получено02.12.2018
Дата публикации03.12.2018
Кол-во символов309
Цитировать   Скачать pdf Для скачивания PDF необходимо авторизоваться
Размещенный ниже текст является ознакомительной версией и может не соответствовать печатной.
1 123

всего просмотров: 1668

Оценка читателей: голосов 0

1. Miyoshi T., Masui S., Okada T. et al. 510–515 nm In-GaN-based green laser diodes on C-plane GaN substrate. Applied Physics Express, 2009, vol. 2, no. 6, 062201. Doi: 10.1143/APEX.2.062201.

2. Cich M.J., Aldaz R.I., Chakraborty A. et al. Bulk GaN based violet light-emitting diodes with high efficiency at very high current density. Applied Physics Letters, 2012, vol. 101, no. 22, 223509. Doi: 10.1063/1.4769228.

3. Nie H., Diduck Q., Alvarez B. et al. 1.5-kV and 2.2- mOhm-cm2 Vertical GaN Transistors on Bulk-GaN Substrates. IEEE Electron Device Letters, 2014, vol. 35, no 9, pp. 939–941.

4. Fujikura H., Yoshida T., Shibata M., Otoki Y. Recent progress of high-quality GaN substrates by HVPE method. Proceedings of "Gallium Nitride Materials and Devices XII". International Society for Optics and Photonics, 2017, vol. 10104, 1010403. Doi: 10.1117/12.2257202.

5. Mori Y., Imade M., Maruyama M, Yoshimura M. Growth of GaN crystals by Na flux method. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2013, vol. 2, no. 8, pp. N3068–N3071. Doi: 0.1149/2.015308jss.

6. Kucharski R., Zając M., Doradziński R. et al. Non-polar and semi-polar ammonothermal GaN substrates. Semiconductor Science and Technology, 2012, vol. 27, no. 2, 024007. Doi: 10.1088/0268-1242/27/2/024007.

7. Bockowski M., Iwinska M., Amilusik M. et al. Challenges and future perspectives in HVPE-GaN growth on ammonothermal GaN seeds. Semiconductor Science and Technology, 2016, vol. 31, no. 9, 093002. Doi: 10.1088/0268-1242/31/9/093002.

Система Orphus

Загрузка...
Вверх